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        真空烘烤除氣裝置
        
						
        
						
        
							
        作者：華宇分公司時間：2022-12-23點擊：3383次
        
						
        
						
        
							
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        該設(shè)備與大型微波源對接，可以完成微波在空間不同高度環(huán)境中相關(guān)實驗?？梢詫崿F(xiàn)某一高度、不同濕度、不同溫度下的環(huán)境模擬實驗。依據(jù)這套設(shè)備組建成了我國第一個HPM大氣等離子體實驗室。

        產(chǎn)品參數(shù)
        序號
        項目
        技術(shù)參數(shù)
        1
        真空容器尺寸
        Φ1800mm×2700mm（L）
        2
        真空度
        1×105Pa～1×10-2 Pa
        3
        溫度范圍
        熱沉溫度在-60℃～40℃范圍內(nèi)可調(diào)，控制點
        4
        控制精度
        ±1℃
        5
        濕度指標(biāo)
        在15℃～40℃范圍內(nèi)，壓力從2000 Pa～大氣壓，水蒸汽在此壓力范圍內(nèi)分壓控制精確優(yōu)于±10%


        						
        
						
						
					
        
				
        
			
        
			
			
			
			
			
			
        
			
			
			
		
        
	
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