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        JPTD　磁控鍍膜系列
        
						
        
						
        
							
        作者：甘肅真空設(shè)備有限公司時間：2022-09-22點擊：1518次
        
						
        
						
        
							
        圖片28.jpg      a747d43834da99783de24bb059c2eef.jpg

          ※　系列產(chǎn)品參數(shù)
        型號項目
        JPTD-1000L
        JPTD-1000LA
        JPTD-1000LC
          極限真空度　　　Pa
        5.0×10-3（清潔、干燥、空載）
          恢復(fù)真空時間　　Pa
        18（從大氣～10-2Pa）
          基材
        PET、PVC、PE等
          有效鍍幅　　　　mm
        500
        650
        800
          最大卷徑　　　　mm
        Φ300
          鍍膜速度　　　m/min
        ITO靶0.5～1.5m/min 其它靶 5m/min(max)
          磁控靶數(shù)目 　 　只
        5
        6
        8
          靶材　　　　
        銦錫合金（黃銅、紫銅、鎳、鈦等選用）
          濺射壓力　　　　Pa
        1～0.1
          濺射電壓　　　　V
        300～600（D.C）
          工作氣體
        Ar、 O2純度99.99%
          最大需用功率　　KVA
        52
        55
        78
          冷卻水量　　　　t/h
        5　　　?。ㄈ肟趬毫?.15～0.2MPa，進(jìn)水溫度25℃以下）
          占地面積 　　　 　mm
        6850×5020×2600
        7000×5020×2600
        7250×5020×2600
            

        						
        
						
						
					
        
				
        
			
        
			
			
			
			
			
			
        
			
			
			
		
        
	
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